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机译:厚钨涂层的化学气相沉积:拉曼测量和质量传递模型
机译:厚钨涂层的化学气相沉积:拉曼测量和传质模型
机译:流化床金属有机化学气相沉积法在致密钨粉上的氧化铝涂层。
机译:碳化钨牙科刀具上的化学气相沉积金刚石涂层
机译:化学蒸汽运输沉积的微晶钨涂层在1600°C工作
机译:从单源前驱体化学气相沉积氧化钨薄膜。
机译:气溶胶辅助化学气相沉积的铜基防水和抗菌涂层
机译:难熔金属涂层沉积在金属管孔中-通过化学气相沉积,例如由铌,钽或钨制成,在管孔中涂层的长度确切
机译:通过气相沉积(即化学气相沉积(CVD)或压缩化学气相沉积(LPCVD))以及气体注入器,同时在半导体制造过程中同时涂覆多个晶圆的工具
机译:通过物理气相沉积的技术和化学气相沉积的技术的结合来沉积涂层的方法是通过等离子体进行的,由此获得涂层,并且用该衬里覆盖基材
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